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HORIBA堀場(chǎng)HF-700A微量氫氟酸濃度監(jiān)測(cè)儀 這是一種痕量氫氟酸濃度監(jiān)測(cè)儀，用于管理濕法工藝中硫酸和過氧化氫中 ppm 級(jí)氫氟酸濃度。 硫酸、過氧化氫和微量氫氟酸的濃度控制，可有效去除蝕刻工藝后的聚合物殘留物，并可穩(wěn)定、連續(xù)地測(cè)量到 ppm 級(jí)，從而可以進(jìn)行有效的工藝管理。
更新時(shí)間：2025-10-05
產(chǎn)品型號(hào)：HF700A
瀏覽量：942
原裝供應(yīng)HORIBA堀場(chǎng)化學(xué)濃度監(jiān)測(cè)儀CS-100 這是用于濕法工藝中使用的各種化學(xué)溶液的化學(xué)濃度監(jiān)測(cè)儀系列。 您可以從 100 多種應(yīng)用類型中選擇適合化學(xué)液體的型號(hào)。實(shí)時(shí)測(cè)量每種成分的濃度，并發(fā)出警報(bào)通知您何時(shí)更換化學(xué)溶液或自動(dòng)補(bǔ)充。較短的測(cè)量周期能夠忠實(shí)地跟蹤濃度變化。
更新時(shí)間：2025-10-05產(chǎn)品型號(hào)：CS100瀏覽量：1090
現(xiàn)貨供應(yīng)HORIBA堀場(chǎng)CS-700化學(xué)濃度監(jiān)測(cè)儀 這是一款化學(xué)濃度監(jiān)測(cè)儀，可以準(zhǔn)確測(cè)量半導(dǎo)體制造工藝中使用的混合液體中各成分的濃度。 非常適合控制多組分化學(xué)溶液，包括商標(biāo)化學(xué)溶液。它有助于加強(qiáng)半導(dǎo)體制造工藝的質(zhì)量控制，提高化學(xué)品管理的準(zhǔn)確性。
更新時(shí)間：2025-10-05產(chǎn)品型號(hào)：CS700瀏覽量：669
進(jìn)口HORIBA堀場(chǎng)CS-151F1光纖化學(xué)濃度檢測(cè)儀 這是一款光纖型化學(xué)濃度監(jiān)測(cè)儀，可實(shí)現(xiàn)清洗、蝕刻等半導(dǎo)體制造工序中使用的化學(xué)物質(zhì)的在線實(shí)時(shí)測(cè)量。 可以進(jìn)行在線實(shí)時(shí)測(cè)量。使用一臺(tái)濃度計(jì)可以同時(shí)測(cè)量多達(dá) 4 種類型（化學(xué)溶液或微波），因此適合在一槽/單晶圓清潔設(shè)備中進(jìn)行測(cè)量。
更新時(shí)間：2025-10-05產(chǎn)品型號(hào)：CS151F1瀏覽量：869日本HORIBA堀場(chǎng)CS-600F光纖化學(xué)濃度監(jiān)測(cè)儀 這是一種光纖型化學(xué)濃度監(jiān)測(cè)儀，可測(cè)量清洗和蝕刻等半導(dǎo)體制造過程中使用的化學(xué)物質(zhì)。 實(shí)現(xiàn)對(duì)濕法工藝的高溫化學(xué)溶液的直接測(cè)量。實(shí)現(xiàn)“快速、穩(wěn)定、節(jié)省空間”，實(shí)現(xiàn)更高效、高精度的化學(xué)品管理。
更新時(shí)間：2025-10-05產(chǎn)品型號(hào)：CS600F瀏覽量：655
北崎HORIBA堀場(chǎng)CS-620F高溫磷酸濃度監(jiān)測(cè)儀 無需冷卻即可實(shí)時(shí)測(cè)量高溫磷酸的磷酸濃度監(jiān)測(cè)儀。 非常適合控制半導(dǎo)體制造工藝中使用的磷酸濃度，主要是3D NAND閃存的SiN層*1 蝕刻工藝。 *1 SiN層：在硅晶片等上形成的硅和氮化合物的薄膜。
更新時(shí)間：2025-10-05產(chǎn)品型號(hào)：CS620F瀏覽量：727
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